Grados de pureza objetivo de niobio MH disponibles
Objetivo de niobio al 99,95% (4N)
● Pureza ultra-alta con impurezas metálicas y gaseosas extremadamente bajas.
● Plasma estable, baja generación de partículas.
● Adecuado para semiconductores, superconductores y películas electrónicas-de alta gama.
Objetivo de niobio al 99,9% (3N)
● Alta pureza con excelente relación coste-rendimiento
● Estabilidad confiable ante la pulverización catódica para aplicaciones de recubrimientos industriales
● Adecuado para recubrimientos electrónicos, ópticos y funcionales en general.
Formas objetivo de niobio MH
Suministramos objetivos de niobio en múltiples geometrías para adaptarse a diferentes sistemas de pulverización catódica:
Objetivo rectangular/cuadrado
● Sistemas de pulverización catódica planar
● Cátodos de pulverización catódica con magnetrón
● Deposición de película uniforme-en áreas grandes
Objetivo tubular
● Sistemas rotativos de pulverización catódica
● Mayor tasa de utilización objetivo
● Mejora de la uniformidad del recubrimiento y la eficiencia de la producción.
(Dimensiones personalizadas y opciones de unión disponibles a pedido).
Rango de especificación del objetivo de niobio MH
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Pureza |
99.9%, 99.95% |
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Densidad |
Mayor o igual al 99,9% de la densidad teórica. |
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Estructura del grano |
Fino y uniforme |
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Acabado superficial |
Ra0.4 |
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Objetivo rectangular/cuadrado |
Longitud menor o igual a 3000 mm, ancho menor o igual a 800 mm, espesor (mm) 1 ~ 20 mm |
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Objetivo tubular |
Diámetro exterior 10-400 mm, pared 2-28 mm |
99,95% vs 99,9% – Guía de selección
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Artículo |
99,95% no objetivo |
99,9% no objetivo |
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Nivel de pureza |
Pureza ultra-alta (4N) |
Alta pureza (3N) |
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Contenido de impurezas |
Extremadamente bajo |
Bajo |
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Calidad de la película |
Máxima uniformidad y estabilidad |
Estable, grado industrial- |
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Generación de partículas |
Mínimo |
Bajo |
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Aplicaciones típicas |
Semiconductores, películas superconductoras, I+D. |
Recubrimientos ópticos, películas funcionales, producción en masa. |
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Nivel de costo |
Más alto |
Más económico |
Objetivo rectangular versus tubular: guía de selección
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Comparación |
Objetivo rectangular/cuadrado |
Objetivo tubular |
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Compatibilidad de procesos |
Sputtering Planar, Sputtering Magnetrón |
Farfulla cilíndrica |
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Utilización de materiales |
20%~30% |
70%~85% |
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Costo de adquisición |
Moderado |
Mucho más alto que los objetivos de placa |
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Eficiencia de producción |
Lotes pequeños, recubrimientos multi-variedad |
Grandes lotes y recubrimientos continuos |
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Tratamiento superficial |
Pulido y pulido fino |
Molienda fina, más difícil |
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Materiales propuestos |
Niobio puro (99,95%), Nb-1Zr |
Niobio puro (99,95%), Nb-1Zr (propósito especial para altas temperaturas) |
Aplicaciones típicas del objetivo de niobio MH
Películas delgadas semiconductoras.
Recubrimientos superconductores de niobio
Recubrimientos ópticos y decorativos.
Display y dispositivos electrónicos.
Investigación y películas funcionales avanzadas.
¿Por qué elegir objetivos de niobio MH?
● Rendimiento de pulverización estable y de alta pureza
● Microestructura uniforme y alta densidad.
● Múltiples geometrías disponibles: rectangular y tubular
● Dimensiones personalizadas y soluciones de unión
● Uso comprobado en aplicaciones de recubrimientos avanzados
Nuestros objetivos de pulverización catódica de niobio ofrecen una pureza confiable, un comportamiento de pulverización consistente y un rendimiento de película de alta-calidad para aplicaciones exigentes de películas delgadas.
Fabricación personalizada de objetivos de niobio MH
Ofrecemos soluciones personalizadas de objetivos de niobio, que incluyen:
● Dimensiones no-estándar
● Control de tolerancia estricto
● Acabados superficiales especiales
● Requisitos técnicos específicos-de la aplicación
Proporcione dibujos o especificaciones detalladas para su evaluación.
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